"Оптимизация метода изготовления высокоэффективных дифракционных оптических элементов с применением фотолитографии с зазором". Артем Владимирович Паньков, магистратура ФФ НГУ, 12.3.2018
Отчёт по работе, выполненной в магистратуре в 2015.
Состав коллектива
- Паньков Артем Владимирович — магистрант ФФ НГУ, лаборант.
- Корольков Виктор Павлович — руководитель лаборатории дифракционной оптики ИаиЭ СОРАН, и.о. зав. лаб., д. т. н.
- Насыров Руслан Камильевич — старший научный сотрудник, к.т.н.
Аннотация
'Мощные СО2-лазеры, работающие в ИК-диапазоне, широко применяются для резки металлов. Для оптической системы обрабатывающих центров могут применяться дифракционные отражающие фокусаторы, микроструктуру которых предлагается формировать методом фотолитографии с зазором на основе растрированного фотошаблона. Недостатками такого подхода являются наличие широкого обратного ската пилообразного профиля и наличие синусоидальной модуляции рельефа на несущей пространственной частоте растра. Эти дефекты приводят к рассеянию части света в паразитные порядки, которые, предположительно, могут приводить к повреждению оборудования и обрабатываемой детали, а также ухудшать качество реза. В настоящей работе изучены способы решения этой проблемы. Проведено компьютерное моделирование, рассмотрены методы оптимизации растрированного фотошаблона, определен оптимальный размер зазора при печати фотошаблона и период его растрирования.'
Публикации
- Паньков А. В., Корольков В. П., Насыров Р. К. Моделирование и оптимизация фотолитографической технологии изготовления дифракционного поворотного фокусирующего элемента для ИК диапазона //Интерэкспо Гео-Сибирь. – 2015. – Т. 5. – №. 1.
- Паньков А. В., Корольков В. П., Насыров Р. К. ОПТИМИЗАЦИЯ МЕТОДА ИЗГОТОВЛЕНИЯ ВЫСОКОЭФФЕКТИВНЫХ ДИФРАКЦИОННЫХ ОПТИЧЕСКИХ ЭЛЕМЕНТОВ С ПРИМЕНЕНИЕМ ФОТОЛИТОГРАФИИ С ЗАЗОРОМ //Известия высших учебных заведений. Физика. - 2015. - Т.58 - №11-3 — стр.136-139