Работа поддержана грантом РФФИ 18-02-00025
С помощью расчетов на основе теории функционала плотности (ТФП) исследована атомная и электронная структура чистой поверхности Si(331)-12×1. На основе структуры поверхности, предложенной в работе [1], были разработаны значительные усовершенствования как атомной модели, так и используемого в расчетах набора локализованных базисных функций. Эти изменения являются критически важными для корректного воспроизведения зависимости изображений сканирующей туннельной микроскопии (СТМ) от полярности приложенного напряжения. Расхождение размеров Si пентамеров в атомной модели поверхности и на экспериментальных СТМ-изображениях было объяснено в рамках модели Терсофа-Хамана. Были рассчитаны энергетические барьеры, отделяющие друг от друга различные конфигурации изогнутых (buckled) структур на поверхности Si(331) и показано, что эти структуры должны динамически изгибаться при комнатной температуре. Было найдено, что незаполненные электронные состояния на поверхности Si(331) преимущественно локализованы на пентамерах с межузельными атомами и Si-атомах с одной оборванной связью и имеющих sp2-подобную конфигурацию электронных орбиталей. Заполненные электронные состояния локализованы на Si-атомах с одной оборванной связью и имеющих sp3-подобную конфигурацию электронных орбиталей. Было показано, что в рассчитанной плотности электронных состояний имеются два широких пика в запрещенной зоне Si: один вблизи вершины валентной зоны и другой вблизи дна зоны проводимости. Рассчитанная ширина запрещенной зоны поверхности 0.58 эВ прекрасно согласуется с результатами, полученными с помощью сканирующей туннельной спектроскопии (СТС) и фотоэлектронной спектроскопии (ФЭС).