Методом Монте-Карло был исследован процесс зарождения и роста упорядоченных групп наноостровков Ge на подложках Si (100) со встроенным источником упругих деформаций в форме GeSi диска, закрытого слоем Si. В зависимости от толщины закрывающего слоя Si меняются параметры Ge островков и групп, состоящих из них: чем толще закрывающий слой Si, тем меньше островки Ge, меньше их количество в группе и меньше расстояние между ними. Механизм образования таких конфигураций и их изменение в зависимости от толщины закрывающего слоя Si объясняется с точки зрения распределения упругой деформации.