На сегодняшний день формирование наноструктур на функциональных поверхностях различных материалов востребовано в солнечной энергетике, электронной технике, телекоммуникации, плазмонике, оптоэлектронике, создании высокочувствительных датчиков и других технологических приложений. Благодаря различным видам наноструктур (волнообразным, конусным, нанопилларам и др.), можно получать материалы с измененными или приобретенными свойствами, такими как высокая электрическая и/или термическая проводимость, оптическая активность, супергидрофобность и т.д. Наноструктурирование поверхности является апробированным способом улучшения функциональных свойств различных материалов без изменений их химического состава.
Целью данного проекта является развитие и совершенствование эффективного способа наноструктурирования функциональных поверхностей материалов для полупроводниковой продукции путем обработки ионно-кластерным пучком аргона (и возможно других благородных газов) при наклонных углах падения. Преимуществом пучков газовых кластерных ионов является высокая эффективность обработки поверхности материалов при минимальном повреждении приповерхностной структуры мишени. К настоящему времени формирование наноструктур с помощью кластерных ионов не описано в теоретических моделях. Данное направление имеет ограниченное количество экспериментальных работ.