'В области создания массивов квантовых точек наибольший интерес представляет разработка методов, позволяющих формировать массивы с регулярным расположением квантовых точек в плоскости и в пространстве. Практика последнего десятилетия показывает, что прорыв в этом направлении может быть достигнут путем гетероэпитаксиального роста на подложках со специально приготовленным рельефом. Метод заключается в том, что сначала с помощью электронной или голографической литографии на поверхности подложки формируется система регулярно расположенных ямок. Затем, после специальной предростовой подготовки на структурированной подложке производится рост гетероэпитаксиальной пленки, в процессе которого формируется пространственно-упорядоченный массив квантовых точек. Эффект пространственного упорядочения ярко проявляется в случае не очень плотных массивов ямок (с периодом 250 нм и реже). Уменьшение шага массива ямок до 100 нм и меньше приводит к увеличению доли наноостровков, образованных вне ямок, и к значительному разбросу по размерам наноостровков. Несмотря на значительный объем исследований роста на структурированных подложках, остаются малоизученными аспекты, связанные с механизмом поверхностной диффузии и образования трехмерных островков в таких системах. Предлагаемый проект посвящен исследованию механизмов, определяющих миграцию адатомов, зарождение и рост наноостровков германия на структурированных подложках кремния, и выяснению условий, обеспечивающих формирование плотных (1010 см-2 и выше) пространственно-упорядоченных массивов квантовых точек. В рамках проекта предусматривается теоретически рассчитать потенциальный рельеф структурированной поверхности с учетом возникающих сверхструктурных поверхностных перестроек, выявить особенности поверхностной диффузии адатомов, установить места наиболее вероятного зарождения наноостровков и их форму в зависимости от морфологии структурированной поверхности. Будут выяснены оптимальные условия для формирования плотных пространственно-упорядоченных массивов квантовых точек, проведены эксперименты по росту Ge на структурированных подложках Si и выполнен анализ полученных поверхностных структур.'